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POI-Acoustic Grade LTOI Substrate
POI-声学级LTOI衬底
POI即绝缘体上压电材料(Piezoelectric on Insulator),以高阻硅作为基底、中层为氧化埋层,顶层是一层薄且均匀的单晶LT薄膜层。在射频领域凭借其高频、低损耗特性成为5G/6G滤波器、谐振器的关键材料。通过异质集成技术实现超薄单晶层,具备高机电耦合系数和优异温度稳定性,高Q值谐振。产品核心参数对标国际头部企业,性能满足高端应用需求,广泛应用于高性能滤波器。
POI-声学级LTOI衬底(智能剥离)

  • Items
  • Specification
  • Diameter
  • 150±0.2 mm
  • LT Crystal Orientation
  • Y42°/Y50°±0.3°
  • LT Layer Thickness Mean
  • (300~1000)±20 nm
  • Layer Thickness Range
  • <40 nm
  • Front Side Surface Finish
  • <0.5 nm
  • Buried Oxide Layer Thickness Mean
  • (300~1000)±20 nm
  • Buried Oxide Layer Thickness Range
  • <40 nm
  • Trap-Rich Layer Average Thickness
  • {0.5-1.5 μm}±0.1 μm
  • Si Orientation
  • <100>, <110> ,<111>, etc.
  • TTV
  • ≤5 μm
  • BOW
  • -50~50 nm
  • Warp
  • <50 μm
  • Total Thickness
  • 675±25 μm
POI-声学级LTOI衬底(减薄)

  • Items
  • Specification
  • Diameter
  • 150±0.2 mm
  • LT Crystal Orientation
  • Y42°/Y50°±0.3°
  • LT Layer Thickness Mean
  • (2~50)±0.5 μm
  • Layer Thickness Range
  • <2 μm
  • Front Side Surface Finish
  • <0.5 nm
  • Si Orientation
  • <100>, <110>, <111>, etc
  • TTV
  • ≤5 μm
  • BOW
  • -50~50 nm
  • Warp
  • <50 μm
  • Total Thickness
  • 675±25 μm
POI-声学级LTOI衬底(减薄)


  • Items
  • Specification
  • Diameter
  • 150±0.2 mm
  • LT Crystal Orientation
  • Y42°/Y50°±0.3°
  • LT Layer Thickness Mean
  • (300~10000)±50 nm
  • Layer Thickness Range
  • <100 nm
  • Front Side Surface Finish
  • <0.5 nm
  • Buried Oxide Layer Thickness Mean
  • (300~1000)±20 nm
  • Buried Oxide Layer Thickness Range
  • <40 nm
  • Trap-Rich Layer Average Thickness
  • {0.5-1.5 μm}±0.1 μm
  • Si Orientation
  • <100>, <110> ,<111>, etc.
  • TTV
  • ≤5 μm
  • BOW
  • -50~50 nm
  • Warp
  • <50 μm
  • Total Thickness
  • 675±25 μm
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