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Smart-Cut SOI Substrate
智能剥离 SOI衬底
智能剥离SOI即绝缘体上硅(Silicon on Insulator),是在顶层硅与衬底材料之间加入了二氧化硅层,通过智能剥离技术在绝缘体上形成了半导体薄膜。其具有寄生电容小,功耗低,可消除闩锁效应等优点,广泛应用于射频前端芯片、功率器件、及硅光子器件等领域。
智能剥离 SOI衬底

  • Items
  • Specification
  • Diameter
  • 150/200 ± 0.2 mm
  • SI Orientation
  • <100>, <110>, <111>, etc.
  • Dopant Type
  • P/N
  • Device Layer Si Thickness
  • (0.1 ~ 1.5 μm) ± 20 nm
  • Edge Chip, Scratch, Crack (visual inspection)
  • None
  • Front Roughness
  • Ra ≤ 0.2 nm (5 μm * 5 μm)
  • BOX Layer Thickness
  • 0.02 ~ 3 μm
  • TTV
  • ≤5 μm
  • BOW
  • -40 ~ 40 μm
  • Warp
  • ≤50 μm
  • Total Thickness
  • 625 / 675 / 725 ± 25 μm
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邮箱:sales@isaber-s.com

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