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Semi-insulating SiC substrate
半绝缘SiC复合衬底
半绝缘SiC衬底复合衬底,是利用先进晶圆键合与剥离转移技术实现的高/低质量半绝缘SiC复合衬底材料,作为基板通过外延工艺制得SiC基GaN外延片,最终制成HEMT等微波射频器件,应用于信息通讯、无线电探测等领域。
6寸半绝缘SiC复合衬底

  • Items
  • Specification
  • Diameter
  • 150±0.2 mm
  • Poly type
  • 4H
  • Resistivity
  • >E8 ohm·cm
  • Transfer layer Thickness
  • ≥0.5 μm
  • Void (Size: ≥5 mm)

    Void (Size: 1 ~ 5 mm)

    Void (Size: 0.5~1 mm)

  • 0 ea/wafer

    ≤3 ea/wafer

    ≤5 ea/wafer

  • Front (Si-face) roughness
  • Ra≤0.2 nm (5 μm*5 μm)
  • Edge Chip, Scratch, Crack(visual inspection)
  • None
  • TTV
  • ≤5 μm
  • Warp
  • ≤50 μm
  • Thickness
  • 500±25 μm
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